Приветствую Вас ГостьПонедельник, 26 Окт 2020, 12:24:04

Computer Science



09:05:48
Обзор по испарительной литографии опубликован в высокорейтинговом журнале

Обзор по испарительной литографии опубликован
в высокорейтинговом журнале

 

На страницах журнала Advances in Colloid and Interface Science (Достижения в науке о коллоидах и межфазных границах) вышел в свет обзор “Applying droplets and films in evaporative lithography (Применение капель и пленок в испарительной литографии). Журнал Advances in Colloid and Interface Science (издательство «Elsevier») входит в 1-й квартиль (Q1) в области физической химии, поверхностей и межфазных границ и других направлений по данным Scopus (Cite Score 16) и Web of Science (Impact factor 9.922). Кроме того, по данным Scopus журнал занимает 4-ю позицию среди 52 журналов по направлению «поверхности и межфазные границы» (surfaces and interfaces).

Авторы обзора, к.ф.-м.н., доцент кафедры МиЕНД Каспийского института морского и речного транспорта К.С. Колегов и к.ф.-м.н., научный сотрудник Института теоретической физики им. Л.Д. Ландау (г. Черноголовка) Л.Ю. Бараш, посвятили свою работу такому направлению как испарительная литография. Это относительно новое направление, которое представляет перспективы практического использования в различных сферах деятельности как, например, нанотехнологии (функциональные покрытия), медицина (биосенсоры), микро- и оптоэлектроника (прозрачные и электропроводные структуры). Формирование различных структур осадков коллоидных частиц относится к более широкому направлению, известному как «самосборка, вызванная испарением» (evaporative-induced self-assembly). Авторы классифицировали большое число экспериментов в данном направлении и показали, как испарительная литография соотносится с ними. Кроме экспериментальных достижений в обзоре подробно изложено состояние дел в области математического моделирования процессов тепло- и массопереноса в испарительной литографии. В заключении описаны перспективы дальнейшего развития этого направления. Работа выполнена при финансовой поддержке Российского научного фонда.

Kolegov K.S., Barash L.Yu. Applying Droplets and Films in Evaporative Lithography // Advances in Colloid and Interface Science.— 2020.— Vol. 285.— P. 102271 DOI 10.1016/j.cis.2020.102271

SCImago Journal & Country Rank

Просмотров: 46 | Добавил: КС | Рейтинг: 5.0/1
Всего комментариев: 0
Статистика

Онлайн всего: 1
Гостей: 1
Пользователей: 0
Вход на сайт
Поиск
Календарь
«  Октябрь 2020  »
ПнВтСрЧтПтСбВс
   1234
567891011
12131415161718
19202122232425
262728293031
Архив записей
Друзья сайта